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設備共用化　セミナー

第１回　プリント基板用直接描画装置

　　　　 　　平成 24 年 9月 20日～21日

第２回　微細パターン加工装置

　　　　 　　平成 25 年 1月 22日～23日

第３回　ＵＶ+ＣＯ2レーザー加工機

　　　　 　　平成 25 年 2月 20日～22日

第４回　リアクティブイオンエッチャー

　　　　 　　平成 25年 3月 13日～14日

設備共用化　機器・試作

※４回で延べ６１名のご参加をいただきました

平成24年度

第１回　リアクティブイオンエッチャー

　　　　 　　平成 25年 11月 8日

第２回　電解ビアフィルめっき装置

　　　　 　　平成 26年1月 23日

  

平成25年度

平成26年度

第２回　リアクティブイオンエッチャー

　　　　 　　平成 27年 2月 17日

  

第１回　スピンコーター、縦型酸化炉

　　　　 　　平成 27年 2月 17日

第２回　縦型酸化炉

　　　　 　　平成 28年 2月  9 日

第１回　UV+CO２レーザー加工機

　　　　 　　平成 28年 2月 9日

平成27年度

第２回　ウェハーカップ式銅メッキ装置

　　　　 　　平成 28年 12月 15日

  

第１回　プリント基板用直接描画装置

　　　　 　　平成 28年 10月 18日

平成28年度

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